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8800 ICP-MS/MS
确保的性能,包括标配的 8800 主机型 (#100) 和半导体选项(#200)参数单位元素/比率8800#1008800#200 灵敏度 Mcps/ppm
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质谱仪 ICP-MS100
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美国热电ICP-MS
等离子体状态高稳定性的同位素比 ICP-MS是获得认可的痕量元素分析和定量的高效技术。 其应用范围从半导体工业到地质和环保分析、从生物研究到材料科学。 ICP-MS最严重的限制是元素信号的多原子干扰
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美国热电ICP-MS
和Infinity II型离子透镜技术,以chicane离子偏转装置的六极杆设计为基础,提供最低的背景噪声。 符合人机工效学设计的四极杆ICP-MS,其所用空间甚至小于一些AAS系统。创新的保护性
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LC-ICP-MS形态分析解决方案LC-ICP-MS联用系统
zei小的仪器体积,占用更少的实验室空间可根据您各种需要做灵活配置、多模块设计方便升级四溶液通道设计PlasmaQuant MS ICP-MS部分高达1.5千兆计数/ppm (15亿计数
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Plasma 3 MC-ICP-MS
Plasma 3是第三代多收集器ICP质谱仪(MC-ICP-MS),旨在为同时同位素离子检测提供zei佳的精度和准确性。该仪器保留了独特的,zl的可变色散变焦镜头,可同时测量从十六个法拉第检测器和
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Agilent 7850 ICP-MS 质谱仪
快速设置和简化的分析可在常规应用中提供出色结果 7850 ICP-MS 质谱仪使用 Agilent 7850 ICP-MS 避免 ICP-MS 分析中常见的时间陷阱。这一智能方法
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J200飞秒激光剥蚀固体进样系统
LA-ICP-MS 的量子级飞跃 J200LA-fs飞秒激光剥蚀进样系统是LA-ICP-MS技术向高精度、高准确度、高灵敏度水平发展的重大突破。J200LA-fs确保元素和同位素
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SPECTRO MS双聚焦ICP-MS等离子质谱仪
计算机控制,准确控制样品提升量。蠕动泵与样品架置于仪器左侧且紧靠进样室,缩短样品输送路径,减少管路冲洗时间。激发系统 与SPECTRO ARCOS型ICP光谱仪相同,SPECTRO MS也采用
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major science 搅拌水浴
产品参数:产品型号SWB-20L-1SWB-20L-3 搅拌磁石数量13 搅拌转速400 ~ 1500rpm (以%设定)水浴槽容量约20升显示器LCD加热功率800W控制器数字式微处理器控制器
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